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1.设备名称:脉冲激光沉积系统
2.型号:NBM-PLD
3.规格:3m*1m*2m
4.设备简介、主要性能指标:
设备简介:脉冲激光沉积系统是一台多功能、快速、高质量的制膜设备:能够制备高质量半导体光学薄膜,速率精确可控到原子数量级,可进行材料调控级生长高真空,保证薄膜质量。
主要性能指标:真空室直径Ф500mm;主腔室极限真空的压强小于9 E-9Torr;进样室可抽真空至压强小于<5E-7Torr;在0.1Torr氧气压下基片可加热至1200℃;可同时安装3个靶材,并可实现靶材的自转和公转;德国Lambda-Physik准分子激光器高达800mJ的高能量激光。
5.现有功能与服务范围:
可实时监控薄膜材料的生长过程,实现薄膜的精确生长、可制备铁电薄膜材料、磁性薄膜材料、光学薄膜材料、多功能复合薄膜等材料。
6.校编号
020121358
7.分类号
03060301
8.国别
美国
9.设备造号
10.购置日期
201206
11.金额
(元)
人民币:1986000
美元:
12.年使用机时
1000
13.可供开放机时数
14.使用收费标准
校内
200元/小时
校外
300元/小时
15.设备管理人:王显威联系方式:15836112697
16.设备制造及供应商:美国NBM公司
17.设备存放地点(楼栋及房号):物理南楼114房间
18.主要附件:
激光器1台,机械泵、气瓶1个