| 1．设备名称：超高真空多功能磁控溅射系统 | |||
| 2．型号：JGP-560 | |||
| 3．规格：3m*1m*2m | |||
| 4．设备简介、主要性能指标： 设备简介：系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。主要性能指标：极限压力≤2.0x10-5Pa；基片结构设计6个工位；样品尺寸:Ф30mm，可放置6片；运动方式：0-360°； 加热:最高温度600°C；靶材尺寸Φ60mm,各靶射频溅射与直流溅射兼容,靶与样品距离40-80mm可调,永磁靶5套。质量流量控制器2路.计算机控制样品转动、挡板开关、靶位确认等。 | |||
| 5．现有功能与服务范围： 用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。 | |||
| 6．校编号 | 02070107 | 7．分 类 号 | 03060302 |
| 8．国别 | 中国 | 9．设备造号 | |
| 10．购置日期 | 200712 | 11．金额 （元） | 人民币：492331.11 |
| 美元： | |||
| 12．年使用机时 | 1500 | 13．可供开放机时数 | 1000 |
| 14．使用收费标准 | 校内 | 50元／小时 | |
| 校外 | 100 元／小时 | ||
| 15．设备管理人：杨海刚联系方式：15837303211 | |||
| 16．设备制造及供应商：中国沈阳科学仪器厂 | |||
| 17．设备存放地点（楼栋及房号）：物理南楼114房间 | |||
| 18．主要附件：氮气瓶、机械泵 | |||